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... MCVD是Modified Chemical Vapor Deposition的缩写，译为改良型化学气相沉积。预制棒的生产方法最早由美国贝尔实验室和南安普顿大学于20世纪70年代初提出，1973年由美国贝尔实验室发明。 鉴于MCVD设备在制备不同种类的预制棒方面具有很强的灵活性，它已成为生产高质量通信光纤预制棒的四大方法之一，并在传感和激光用特种光纤预制棒的制造领域有着广泛的应用。 MCVD法可以在石英管（俗称衬里）的内壁上沉积较高纯度的二氧化硅（SiO2），具有较高的质量（高纯度、低水分、低杂质）；其他可以改变折射率或玻璃体粘度的高纯度物质，如二氧化锗（GeO2）、五氧化二磷（P2O5）、氟化硅（SiO1-5F）等、掺杂在一起，形成具有不同折射率的纤芯和包层，从而使光信号在纤芯中传播时实现全反射、低损耗和高容量。 ...
最大的资本效率和占地面积节省，提供领先的性能 Veeco 的 EPIK® 868 是 LED 业界最高性能的金属有机物化学气相沉积 (MOCVD) 系统，可实现出色的均匀性和可重复性，以及低缺陷率。EPIK 868 拥有四反应腔配置并采用突破性技术，包括专有的 IsoFlange™ 和 TruHeat™ 技术，其可在整个晶片载体上提供层流和均匀的温度曲线。这些技术创新推动了迷你和微型 LED 所需的更高产量。EPIK 固有的 ...
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... 客户可以很轻松地从现有的 TurboDisc 系统切换到新的 Epik 700 MOCVD 平台，从而快速启动高品质 LED 的生产。凭借 EPIK 700 MOCVD 平台的灵活性，将来还能在此基础上进行升级和改进，使得这个世界一流的系统一直保持与众不同。 与前几代产品相比，每晶片成本节省高达 20% 同类最佳的均匀度和工艺重现性能够进一步提高良率 行业生产率最高的反应腔可带来比以前反应腔高出 ...
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业界最高生产率和最高产量的 As/P MOCVD 系统。 Veeco 全新的 TurboDisc K475i As/P MOCVD 系统是业界用于生产红色、橙色、黄色 (R/O/Y) LED 以及多结 III-V 太阳能电池、激光二极管和晶体管的最佳反应腔。K475i 系统具有运用 Veeco 的 Uniform FlowFlange™ 技术的全新反应腔设计，所生产出的薄膜具有极高的一致性和更理想的晶片内和晶片间重复性，以及业界最低的颗粒生成。Uniform ...
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... GaN MOCVD 系统专为电力电子器件行业而设计。该系统采用单晶片反应腔平台，能够处理六至八英寸晶片，可沉积高品质的 GaN 薄膜，生产高效率的电力电子器件。这种单晶片反应腔基于 Veeco 的领先 TurboDisc® 设计并采用突破性的技术，其中包括新的 IsoFlange™ 以及可在整个承载盘中提供均匀的层流和统一温度曲线的 TruHeat™ 晶片线圈。客户可以很轻松地从 Veeco K465i™ 和 MaxBright™ ...
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