{{product.productLabel}} {{product.model}}
{{#if product.featureValues}}{{product.productPrice.formattedPrice}} {{#if product.productPrice.priceType === "PRICE_RANGE" }} - {{product.productPrice.formattedPriceMax}} {{/if}}
{{#each product.specData:i}}
{{name}}: {{value}}
{{#i!=(product.specData.length-1)}}
{{/end}}
{{/each}}
{{{product.idpText}}}
{{product.productLabel}} {{product.model}}
{{#if product.featureValues}}{{product.productPrice.formattedPrice}} {{#if product.productPrice.priceType === "PRICE_RANGE" }} - {{product.productPrice.formattedPriceMax}} {{/if}}
{{#each product.specData:i}}
{{name}}: {{value}}
{{#i!=(product.specData.length-1)}}
{{/end}}
{{/each}}
{{{product.idpText}}}
通过在放电后向等离子体中注入前驱体，ULCoat系列可以在处理过的表面上沉积薄膜。 ULCoat是一款可将前驱体汽化并注入等离子体中，后由喷嘴完成薄膜沉积的系统。ULCoat系列需要与ULS OMEGA系列配合使用。 ULCoat系列的标准版本是为了允许使用有机金属作为前驱体进行氧化硅（SiOx）的沉积而设计的。当然，我们也可以根据要求开发其他薄膜成分。 您可以与我们的研发实验室合作，在研发合同的框架下，定制您的专属解决方案。 系列技术特点 – 与ULS ...
... MCVD是Modified Chemical Vapor Deposition的缩写，译为改良型化学气相沉积。预制棒的生产方法最早由美国贝尔实验室和南安普顿大学于20世纪70年代初提出，1973年由美国贝尔实验室发明。 鉴于MCVD设备在制备不同种类的预制棒方面具有很强的灵活性，它已成为生产高质量通信光纤预制棒的四大方法之一，并在传感和激光用特种光纤预制棒的制造领域有着广泛的应用。 MCVD法可以在石英管（俗称衬里）的内壁上沉积较高纯度的二氧化硅（SiO2），具有较高的质量（高纯度、低水分、低杂质）；其他可以改变折射率或玻璃体粘度的高纯度物质，如二氧化锗（GeO2）、五氧化二磷（P2O5）、氟化硅（SiO1-5F）等、掺杂在一起，形成具有不同折射率的纤芯和包层，从而使光信号在纤芯中传播时实现全反射、低损耗和高容量。 ...
... 氢燃料电池汽车双极板涂覆设备，碳基涂覆设备 , 双极板涂覆设备 应用： FCV 是燃料电池汽车的简称，是下一代绿色汽车的最新技术。它是 100% 环保的，不同于需要反复充电的干电池和充电电池等原电池。 其核心技术是如何利用燃料电池动力模块，通过氢气作为燃料与氧气之间的电化学反应产生电能。来自交通组织和全球汽车制造商的科学家、工程师、教授进行了数千次测试，最终开发出了适当的处理方法。 在过去的三年里，皇家技术公司与客户密切合作，成功设计并制造出高效率、商业化和标准化的溅射沉积系统。我们坚信，这项技术将颠覆汽车行业。 ...
Shanghai Royal Technology Inc.
... 眼镜架 PECVD 薄膜镀膜机 , 眼镜架用 SiC 真空镀金机 FCV 是眼镜框的简称，是下一代绿色汽车的最新技术。它可以通过氧和氢之间的电化学反应持续产生电能。它不同于干电池和充电电池等需要反复充电的一次电池。 其核心技术是如何利用燃料电池动力模块，通过氢气作为燃料与氧气之间的电化学反应产生电能。 氢燃料电池作为动力模块中最关键的部分，来自交通组织和全球汽车制造商的科学家、工程师、教授进行了成千上万次试验，最终找到了合适的处理方法。 它是 100% ...
Shanghai Royal Technology Inc.
... 闭磁场不平衡磁控溅射沉积系统，不平衡磁控溅射离子镀 非平衡和闭磁场磁控溅射工艺具有平面磁控管的所有优点。其他优缺点如下 额外的离子轰击产生致密、附着的薄膜 可进行离子辅助和基底清洁 改进了薄膜的摩擦学性能、耐磨性和耐腐蚀性 适用于多层、超晶格、纳米层压剂和纳米复合薄膜 材料使用更少 更复杂的阴极配置/成本 非平衡和闭磁场磁控溅射彻底改变了磁控溅射工艺可实现的性能。虽然这项技术成功地改善了薄膜的摩擦学、耐腐蚀性和光学性能，但磁控溅射技术的改进才刚刚开始。下一篇博客我们将讨论旋转和圆柱形磁控溅射工艺以及由此产生的薄膜应用。 ...
Shanghai Royal Technology Inc.
主要用于晶体硅太阳能电池制造中电池片的减反射膜生长，也可用于在电池片的背面沉积钝化膜。 石墨舟及硅片准备→管内充氮气→进舟→抽真空、压力测试→氨气预清理和检查→管路抽真空、测漏、恒温→预镀膜→镀膜→抽真空、压力测试→清管路、充氮气→退舟 1、兼容氮氧化硅PERC技术。 2、双水冷密封技术。 3、专利内加热技术。 4、高速平稳整体模组推舟机构。 5、悬浮承载舟技术。 6、自主知识产权MES软件。 7、自主开发中央计算机集中控制系统。 8、快速镀膜技术。 9、全面的防超温、断偶、撞舟等安全报警保护功能。
最大的资本效率和占地面积节省，提供领先的性能 Veeco 的 EPIK® 868 是 LED 业界最高性能的金属有机物化学气相沉积 (MOCVD) 系统，可实现出色的均匀性和可重复性，以及低缺陷率。EPIK 868 拥有四反应腔配置并采用突破性技术，包括专有的 IsoFlange™ 和 TruHeat™ 技术，其可在整个晶片载体上提供层流和均匀的温度曲线。这些技术创新推动了迷你和微型 LED 所需的更高产量。EPIK 固有的 868 TurboDisc® 技术可实现最高的系统可用性和正常运行时间。EPIK ...
VEECO
... 科学研究涂层设备 实验性真空镀膜设备具有外形美观、结构紧凑、性能多样、操作简单可靠、功耗低等特点。它可以实现蒸发镀膜、磁控溅射镀膜、电弧镀膜、CVD、PECVD等工艺。它可以手动、半自动和全自动控制。有许多尺寸和型号可供选择。 ...
... Voyager PIB-CVD是一个围绕无灯丝的Endeavor射频离子源建立的等离子体离子束辅助化学气相沉积（PIB-CVD）系统。这种获得专利的离子源，通过设计，可以在很大范围内独立控制离子电流密度和离子能量，能够产生高沉积率的多层涂层。它能够在低温下（低于100°C）沉积高速率、高质量的涂层，使其与典型的塑料基材，如聚碳酸酯（PC）和聚甲基丙烯酸甲酯（PMMA）兼容。 Voyager PIB-CVD系统的设计重点是类金刚石纳米复合材料（DLN），为平面（如硅片）和三维部件（如光学镜片）的涂层提供一流的灵活性 ...
... 是实验室测试和工业生产小件的理想选择 多功能的设备，可升级为多层配置 完美地适用于。 中小型部件（如电子、医疗应用等）。 晶片最大可达 ø 200 mm (8 英寸) 总体尺寸（长x宽x高）- 2100 x 1370 x 2000mm 重量 - 350公斤 炉膛尺寸 - ∅ 295 x 370 mm 工具尺寸 - ∅260 x 320 mm 最大模具负荷-100公斤 模具负载能力--150g 泵送能力-40立方米/小时 所需电源 - 3 x 400V + ...
COMELEC
... 经过生产验证的 Titan 沉降系统是一种带有真空盒式电梯的负载沉降系统。 它可以配置为聚氯乙烯、聚氯乙烯、聚氯乙烯、聚氯乙烯、聚氯乙烯。 泰坦沉积（Titan）以经济实惠的价格在小占地面积中提供创新和领先的工艺。 针对硅氧化硅、SiNx、SiC 和 A-Si 的可重复沉积制定了标准生产工艺。 所有这一切都以超过 25 年的快速工艺开发经验为后盾。 系统特点： PLC 和触摸屏控制 静电，或机械夹头 主动基板温度控制 真空盒式电梯 可选激光器和光学端点 ...
Trion Technology
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