表面处理等离子体光源 BS-80011BPG

表面处理等离子体光源
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产品规格型号

技术参数
用于表面处理

产品介绍

等离子体源被整合到一个真空室中,并产生高密度的等离子体。等离子体源可以用作等离子体辅助沉积(离子镀),它可以改善光学薄膜、保护膜和功能膜的性能。而且还可以用于等离子体处理,如清洗和表面改性。 特点 低电压和大电流的等离子体能够电离和激发气体分子和蒸发的颗粒。 反应性沉积是可能的,特别适用于促进薄膜氧化。 高密度的等离子体可以在一个大的空间内产生,因此可以实现大面积的高速沉积。 改装到现有的真空室是可能的。 效果 提高薄膜密度和折射率 生产环境稳定的薄膜 低波长偏移 低光学吸收(促进薄膜的氧化) 改善薄膜的附着力 改善表面粗糙度 控制薄膜的应力 规格 最大等离子体输出:6kW (160V, 38A) 工作压力:1×10-2至1×10-1Pa(Ar, O2, N2气氛) 放电气体(Ar):8至20mL/min 冷却水:7至10升/分钟 光束方式:可选择反射光束和辐照光束

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