等离子体源被整合到一个真空室中,并产生高密度的等离子体。等离子体源可以用作等离子体辅助沉积(离子镀),它可以改善光学薄膜、保护膜和功能膜的性能。而且还可以用于等离子体处理,如清洗和表面改性。
特点
低电压和大电流的等离子体能够电离和激发气体分子和蒸发的颗粒。
反应性沉积是可能的,特别适用于促进薄膜氧化。
高密度的等离子体可以在一个大的空间内产生,因此可以实现大面积的高速沉积。
改装到现有的真空室是可能的。
效果
提高薄膜密度和折射率
生产环境稳定的薄膜
低波长偏移
低光学吸收(促进薄膜的氧化)
改善薄膜的附着力
改善表面粗糙度
控制薄膜的应力
规格
最大等离子体输出:6kW (160V, 38A)
工作压力:1×10-2至1×10-1Pa(Ar, O2, N2气氛)
放电气体(Ar):8至20mL/min
冷却水:7至10升/分钟
光束方式:可选择反射光束和辐照光束
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